Die Arbeitsgruppe, unter Leitung von Prof. Dr.-Ing Achim Trautmann, beschäftigt sich mit der Entwicklung und Adaption von mikro-/nanotechnologischen Prozessen zur Herstellung von Komponenten und Systemen auf Chip- und Waferebene. Dabei steht die Umsetzung in anwendbare Prozesse im Vordergrund.

Die Tätigkeitsschwerpunkte liegen insbesondere im Bereich von Reinraumprozessen, in erster Linie Plasmaprozesse. In der Abscheidung werden neben konventionellen mikrotechnischen Materialien ebenfalls neue Materialien-/Materialkombinationen untersucht. In der Strukturierung kommen in erster Linie plasma-basierte Prozesse zur Anwendung, wie beispielsweise „Deep Reactive Ion Etching“.

Neben der eigentlichen Prozessoptimierung steht auch die physikalische und chemische Analyse und Charakterisierung der mikrotechnischen Systeme und Eigenschaften verwendeter Materialien im Fokus. Hier stehen die Untersuchung der Wechselwirkungen von eingesetzten Prozessen, Materialien mit den anwendungsbezogenen Eigenschaften der hergestellten Mikro- und Nanosysteme im Vordergrund.